क्लाउस सल्फर रिकभरी प्रक्रियामा किन सक्रिय एल्युमिना महत्त्वपूर्ण छ?
क्लाउस सल्फर रिकभरी एकाइहरूमा कार्यरत एल्युमिना उत्प्रेरकहरूले यस अनुप्रयोगको लागि उत्प्रेरकहरूको सबैभन्दा क्लासिक र व्यापक रूपमा प्रयोग हुने वर्गलाई प्रतिनिधित्व गर्दछ। उच्च-शुद्धता सक्रिय एल्युमिनाले हाइड्रोजन सल्फाइड (एच) बीचको प्रतिक्रियालाई उत्प्रेरित गर्दछ2S) र सल्फर डाइअक्साइड (SO2) एलिमेन्टल सल्फर (एस) उत्पादन गर्न, जबकि एकै साथ सल्फरको हाइड्रोलाइसिसलाई बढावा दिन्छ{0}}कार्बोनिल सल्फाइड (COS) र कार्बन डाइसल्फाइड (CS) जस्ता उत्पादनहरूद्वारा समावेश-2), जसले गर्दा सल्फर रिकभरी दर बढ्छ।
क्लॉस प्रक्रिया सल्फर रिकभरी के हो?
क्लाउज प्रक्रिया आधुनिक उद्योगमा सबैभन्दा व्यापक रूपमा प्रयोग हुने सल्फर रिकभरी प्रविधिहरू मध्ये एक हो। यो मुख्यतया एच युक्त एसिडिक ग्यासलाई रूपान्तरण गर्न प्रयोग गरिन्छ2सल्फाइडको प्रत्यक्ष उत्सर्जनको कारणले गर्दा वातावरणीय प्रदूषणलाई कम गर्दा एसलाई एलिमेन्टल एसमा परिणत गर्नुहोस्। क्लाउज प्रक्रिया सल्फर रिकभरी विभिन्न औद्योगिक सेटिङहरूमा लागू हुन्छ जसले ठूलो मात्रामा सल्फर- असर गर्ने एसिड ग्यासहरू उत्पन्न गर्छ, जस्तै:
* तेल रिफाइनरीहरू: प्रशोधन प्रक्रियाको क्रममा उत्पादन हुने एसिड ग्यासहरूबाट सल्फर पुनःप्राप्त गर्न;
* प्राकृतिक ग्यास प्रशोधन: प्राकृतिक ग्यास desulfurization को समयमा उत्पन्न एसिड ग्यास उपचार गर्न;
* कोइला रासायनिक उद्योग: कोइलाको ग्यासिफिकेशन र सिङ्गास शुद्धिकरणको क्रममा उत्पादन हुने सल्फर- एसिड ग्यासहरूको उपचार गर्न;
* कोकिङ उद्योग: कोक ओभन ग्यासमा हाइड्रोजन सल्फाइडलाई एलिमेन्टल सल्फरमा रूपान्तरण गर्न;
* पेट्रोकेमिकल उद्योग: एच बाट सल्फर पुन: प्राप्ति गर्न2S-प्रक्रिया ग्यासहरू भएको;
* सल्फाइड-सम्बन्धित उद्योगहरू: सल्फर-सल्फ्यूरिक एसिड, भिस्कोस, र रासायनिक फाइबरहरूबाट हुने फोहोर ग्यासहरू समावेश गर्नका लागि।
क्लाउज प्रक्रियामा एल्युमिना उत्प्रेरक कहाँ राखिएको छ?
एक सामान्य क्लाउज प्रक्रिया सल्फर रिकभरी एकाईमा एसिड ग्यास फिड प्रणाली, एसिड ग्यास भट्टी, फोहोर ताप बोयलर, सल्फर कन्डेन्सरहरू, क्लाउस उत्प्रेरक रिएक्टरहरू, र तरल सल्फर सङ्कलन पिट वा सल्फर सील ट्याङ्की समावेश छन्।
क्लाउज प्रक्रियाको मुख्य प्रतिक्रिया H बीचको प्रतिक्रिया हो2S र SO2मौलिक सल्फर उत्पादन गर्न। व्यवहारमा, H को एक अंश2S लाई पहिले SO उत्पन्न गर्न दहन गरिन्छ2; परिणामस्वरूप SO2त्यसपछि बाँकी H सँग प्रतिक्रिया गर्दछ2सल्फर वाष्प उत्पादन गर्न उत्प्रेरक-क्लस प्रतिक्रिया-माथि, जसले चिसो हुँदा तरल सल्फर उत्पादन गर्छ।
त्यसैले,क्लाउस एल्युमिना उत्प्रेरकमुख्य रूपमा यी उत्प्रेरक रिएक्टरहरूमा प्रयोग गरिन्छ। र मानक औद्योगिक क्लाउज उत्प्रेरक बेडहरू सामान्यतया सक्रिय एल्युमिना प्रयोग गर्छन्।
क्लाउज प्रक्रियामा सक्रिय एल्युमिना उत्प्रेरकको कार्यहरू
मुख्य क्लाउज प्रतिक्रिया उत्प्रेरित। यो सबैभन्दा महत्त्वपूर्ण कार्य हो! एक उत्प्रेरक बिना, H बीच प्रतिक्रिया दर2S र SO2अपेक्षाकृत ढिलो छ; यद्यपि, सक्रिय एल्युमिनाले धेरै सक्रिय सतह साइटहरू प्रदान गर्दछ, प्रतिक्रियालाई औद्योगिक रूपमा स्वीकार्य तापमानमा द्रुत रूपमा सन्तुलनमा पुग्न सक्षम बनाउँछ।
COS hydrolysis उत्प्रेरक। यसका अतिरिक्त एच2S, एसिड ग्यासले सामान्यतया CO समावेश गर्दछ2, हाइड्रोकार्बन, र थोरै मात्रामा जैविक सल्फाइडहरू। थर्मल प्रतिक्रिया भट्टीमा, केही सल्फर-जैविक यौगिकहरू समावेश गर्दछ COS र CS2। सक्रिय एल्युमिनाले COS भित्र सल्फरलाई H मा रूपान्तरण गर्न उत्प्रेरित गर्दछ2S, यसलाई क्लाउज प्रतिक्रिया प्रणालीमा प्रवेश गर्न अनुमति दिँदै; यो कुल सल्फर रिकभरी दर अधिकतम गर्न को लागी महत्वपूर्ण छ।
CS उत्प्रेरित गर्दै2हाइड्रोलाइसिस। CS2क्लाउज प्रक्रियामा विशेष चिन्ताको उपउत्पादन हो। CS को हाइड्रोलिसिस2अणु भित्र रहेको सल्फरलाई H मा बदल्छ2S, यसलाई पछि क्लाउज प्रतिक्रियामा भाग लिन सक्षम पार्दै; यो सक्रिय एल्युमिना उत्प्रेरक को अर्को प्रमुख कार्य हो।
क्लॉस सल्फर रिकभरीमा सक्रिय एल्युमिना किन आवश्यक छ?
एल्युमिना-मा आधारित क्लाउस उत्प्रेरकहरूको लागि, कुञ्जीले मात्र Al लाई अधिकतम बनाउँदैन2O3सामग्री। यसको सट्टा, यो विशेष सतह क्षेत्र, छिद्र संरचना, सतह गतिविधि, र निष्क्रियता प्रतिरोध को एक व्यापक अनुकूलन आवश्यक छ।
H को विभिन्न आणविक आकारहरू दिइयो2S, SO2, COS, CS2, र एच2O-र तथ्य यो कि क्लाउज प्रतिक्रियाले उत्प्रेरक कणहरू भित्र बहु-कम्पोनेन्ट ग्याँसहरूको प्रसार समावेश गर्दछ-छिद्र आकार व्यवस्थापन महत्त्वपूर्ण छ। यदि छिद्रहरू धेरै सानो छन् भने, प्रतिक्रियात्मक प्रसारमा बाधा उत्पन्न हुन्छ र आन्तरिक प्रसार प्रतिरोध बढ्छ, उत्प्रेरक भित्र सक्रिय साइटहरूको पूर्ण उपयोगलाई रोक्छ। यसको विपरित, यदि छिद्रहरू धेरै ठूलो छन् भने, सक्रिय साइटहरूको संख्या घट्छ। फलस्वरूप, औद्योगिक क्लॉस उत्प्रेरकहरूलाई विशेष रूपमा ईन्जिनियर गरिएको छिद्र आकार वितरण चाहिन्छ, र सक्रिय एल्युमिनाले यी आवश्यकताहरू पूरा गर्न आवश्यक सतह गुणहरू र छिद्र संरचनाहरू प्रदान गर्न सक्छ।
सिन्मेट केमिकलअनुकूलित उच्च - शुद्धता प्रदान गर्दछसक्रिय एल्युमिना उत्प्रेरकविशेष गरी क्लाउस प्रक्रिया सल्फर रिकभरीको लागि। थप विवरणहरूको लागि, कृपया सन्दर्भ गर्नुहोस्सक्रिय एल्युमिनाउत्पादन वर्ग।
